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基礎信息Product information
產品名稱:

氣氛型可調高溫加熱裝置

產品型號:

廠商性質:生產廠家

所在地:北京市

更新日期:2024-10-25

產品簡介:

氣氛型可調高溫加熱裝置HCTD系列/HCHD系列可以進行太陽能電池/化合物半導體等的工藝開發和各種應用程序的安裝。此系列是將紅外線反射爐和溫度控制器組合,并且還將石英的熱處理室緊湊地裝備起來的高速加熱、冷卻裝置。也可以根據用戶的需要進行定制。

產品特性Product characteristics
品牌華測

產品介紹:

 中小型高溫爐是工業生產與科研中常用的設備之一。目前高溫爐基本均采用硅鉬棒、硅碳棒作為加熱體,升溫速率慢、無法實現變溫環境模擬,且不同氣氛環境難以共用。

 氣氛型可調高溫加熱裝置HCTD系列/HCHD系列可以進行太陽能電池/化合物半導體等的工藝開發和各種應用程序的安裝。此系列是將紅外線反射爐和溫度控制器組合,并且還將石英的熱處理室緊湊地裝備起的高速加熱冷卻裝置。也可以根據用戶的需進行定制。


氣氛型可調高溫加熱裝置


儀器規格:

型號

HCTD-1400

HCTD-1200A

HCTD-1200B

加熱方式

近紅外橢圓反射

紅外拋物面反射聚光

溫度范圍

RT~1400℃

RT~1200℃

熱處理區

Φ15mm×長100mm

Φ50mm×長100mm

Φ50mm×長150mm

均熱去(加熱時)

Φ10mm×長80mm

Φ40mm×長80mm

Φ40mm×長120mm

冷卻方式

從腔內石英噴嘴噴出氣體

儀器特點:

設定從高速加熱到低速加熱的廣泛條件

多步驟及循環加熱利用氣體冷卻機構的高速氣體淬火

可以簡單地從電腦上輸入溫度程序設定和外部信號

可以在電腦上顯示加熱中的溫度數據

儀器應用:

太陽能電池基板的熱處理

在氣氛環境下的熱處理

各種材料的基礎研究氣氛退火熱處理

模擬器漸變熱處理

熱循環熱沖擊試驗研究

半導體材料的燒結和工藝退火爐


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